另外，当湿度过高时，普通工作台，粘在硅芯片表面的灰尘会被化学吸附在表面，难以清理。相对湿度越高，去除附着越困难。而当相对湿度低于30％时，由于静电力的作用，颗粒容易吸附在表面，大量半导体器件容易击穿。
净化工程压力调节
对于大多数洁净空间来说，普通工作台图片，要保持内压（静压）高于外压（静压），以防止外部污染的侵入。压差一般应按照以下原则维持:
净化工程技术对精密机械和精细化工的意义：
随着科学技术的发展，许多工业产品的生产加工对生产环境中的粉尘浓度提出了---的要求，要求生产环境具有一定水平的洁净空气，控制生产过程中所需的各种相关物质的供应。比如在胶片制作中，如果胶片被灰尘污染，感光乳剂就会被氧化，活性减弱，ph值发生变化，普通工作台承重，从而影响胶片的感光性能。
还有这个卫生等一些要求，等级差异也比较大。那么这个主要的特点就是说在流动的这个气体表面，普通工作台品牌，如果发生一些变化的时候，整个房间都要保持一致，一定是外面的风口速度再大，气流也不能朝室内的方向流动。
能够看到净化工程主要受流速的影响，但是如果采用这个过滤器的送风形式，即便是流速比较低，一定能够得到上面这个结果。这是因为突变流和这个非均匀硫在一块所引起的混合以及整个房间的大回流发生漩涡所导致的。空气通过这个过滤器来进入到其中，然后进行操作，非常简单。
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